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纯小白，我是学abaqus，要建碳纳米管分析，可是用CAD试了一下发现太麻烦了，网上有说用MS，3Dmax，revit来建模的，我该用哪种好啊⊙﹏⊙

6个样品 对比一下石墨烯模型下C，N存在C，O存在，C，N，O存在，C，N，O，Co存在，，C，N，O，Ni存在和C，N，O，Co，Ni存在的吉布斯自由能，最后，C，N，O，Co，Ni都存在吉布斯自由能最小，最接近0，碱性电解液

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计算ΔE 和ΔH

计算材料：材料为三个 前两个模型如下图1和2，（3）NiCoP/Ni0.5Co0.5Se2模型没有找到需要您建立。整体三个计算材料例如图3：（1）单纯NiCoP；（2）下面NiCoP 上面 NiCo-OH；（3）下面 NiCoP 上面Ni0.5Co0.5Se2。计算内容：如图4c三种材料在水的分解产氢过程中的能量势垒；图4d产氢过程中各状态的自由能和对应的结构图（如图5）；三种材料的差分电荷密度图6d,e,f；三种材料DOS和PDOS如图6g 和图7 NiCoP 模型 NiCo-OH 模型按照这个建立

这个是相同界面 不过Pt的在中间 合金在旁边 还是按客户要求改的 那篇参考文献是吸附在杂原子上的

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聚苯胺薄膜在离子液体[EMIM]+掺杂后，膜层导电特性由p型空穴导电变为n型电子导电；其中[EMIM]+为质子惰性的 [1-乙基-3-甲基咪唑]+ 阳离子，即不接收/给出电子，可以认为电荷稳定，阳离子依靠静电吸引在聚苯胺N附近；希望通过计算出掺杂前后聚苯胺能级变化，和聚苯胺N处p-π共轭键的差分电荷变化； 主要合成过程：离子液体[EMIM]+[EtSO4]- 离子液体掺杂后，我继续做了TiO2的杂化工作，在膜层XPS的分析中，发现了O-Ti-N的化学键，分析认为是 TiO2小分子杂化

这是我们的实验数据，带隙是3.0，现在想理论计算一下硼量子点的带隙 厚度是2个纳米，尺寸是四个纳米左右的量子点的理论能隙 或者能计算下图这样的也可以

计算需求 计算碱性电解液下析氢HER反应二维石墨烯即C单独存在，C N O存在，C N O Co存在和C N O Co Ni存在四种情况下的吉布斯自由能，我可以提供元素的配位构型和相关参考文献，麻烦您帮我沟通一下费用，和计算所需时间

SO2 was adsorbed on Pt atoms of Pt (111) and PtRu (111) in the form of vertices,and the difference between differential electron density diagrams was compared.The two can be compared on the premise that the selected cross section is the same,so that the Angle is the same, in order to show the change of charge densitythrough color contrast. However, the sections of Pt (111) and PtRu (111) givenin the calculation results are not the same, so there is no comparability.Could you please give us the results of the same section?

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