湿电子化学品(Wet Chemicals)从行业分类上来说,属于精细化工的细分行业,是电子湿法工艺中使用的各种电子化工材料,其主要应用于泛半导体领域(晶圆、显示面板、太阳能电池),制造加工过程中的清洗、刻蚀等湿法工艺制程。
而在晶圆、显示面板、太阳能电池片制造环节,由于硅片表面的洁净度对性能、良率、显示高清度至关重要,因此,制造工艺都会有清洗环节。湿化学品的存在,作用就是在清洗过程中,利用化学制剂的腐蚀性、可溶性等特性,达到清除晶圆等表面残留的有机污染物,降低金属杂质的残留量的目的。
故而湿电子化学品的金属杂质含量越低、颗粒度越小,越是可以应用于更为先进的晶圆制程工艺。所以湿电子化学品的核心指标就是“纯净度”,为了给湿电子化学品按照纯净度进行划分,我们会使用到SEMI标准对湿电子化学品进行分级。
SEMI标准是由国际半导体设备与材料产业协会(Semiconductor Equipment and Materials International)制定,其将湿电子化学品分为G1-G5五个等级。G1等级湿电子化学品适用制程为>1.2μm、金属杂质≤1000μg/L、颗粒度≤1.0μm;而G5等级湿电子化学品适用制程<0.09μm、金属杂质≤0.01μg/L、颗粒度更小。
目前太阳能电池领域仅需要达到G1等级,代表性的公司如亿纬锂能、宁德时代、欣旺达和德赛电池;显示面板领域一般要求达到G2、G3等级,代表性的公司如TCL、京东方、三星和LG;集成电路领域,8英寸及以下晶圆要求达到G3、G4水平,12英寸晶圆需要达到G5等级,代表性的公司如华虹半导体、中芯国际、台积电、华润微。
现在国际上制备G1到G5级湿电子化学品的技术都已经趋于成熟,国内大部分企业已经达到了国际G3标准,并已开展G4标准的研发工作。一些技术领先的湿电子化学品企业,如江化微公司,目前技术水平已达到SEMI标准等级的高端行列,硝酸纯度、氢氟酸、氨水、金属刻蚀液等均已完成行业顶级(G4级和G5级)品类中试,量产在即。
而在晶圆、显示面板、太阳能电池片制造环节,由于硅片表面的洁净度对性能、良率、显示高清度至关重要,因此,制造工艺都会有清洗环节。湿化学品的存在,作用就是在清洗过程中,利用化学制剂的腐蚀性、可溶性等特性,达到清除晶圆等表面残留的有机污染物,降低金属杂质的残留量的目的。
故而湿电子化学品的金属杂质含量越低、颗粒度越小,越是可以应用于更为先进的晶圆制程工艺。所以湿电子化学品的核心指标就是“纯净度”,为了给湿电子化学品按照纯净度进行划分,我们会使用到SEMI标准对湿电子化学品进行分级。
SEMI标准是由国际半导体设备与材料产业协会(Semiconductor Equipment and Materials International)制定,其将湿电子化学品分为G1-G5五个等级。G1等级湿电子化学品适用制程为>1.2μm、金属杂质≤1000μg/L、颗粒度≤1.0μm;而G5等级湿电子化学品适用制程<0.09μm、金属杂质≤0.01μg/L、颗粒度更小。
目前太阳能电池领域仅需要达到G1等级,代表性的公司如亿纬锂能、宁德时代、欣旺达和德赛电池;显示面板领域一般要求达到G2、G3等级,代表性的公司如TCL、京东方、三星和LG;集成电路领域,8英寸及以下晶圆要求达到G3、G4水平,12英寸晶圆需要达到G5等级,代表性的公司如华虹半导体、中芯国际、台积电、华润微。
现在国际上制备G1到G5级湿电子化学品的技术都已经趋于成熟,国内大部分企业已经达到了国际G3标准,并已开展G4标准的研发工作。一些技术领先的湿电子化学品企业,如江化微公司,目前技术水平已达到SEMI标准等级的高端行列,硝酸纯度、氢氟酸、氨水、金属刻蚀液等均已完成行业顶级(G4级和G5级)品类中试,量产在即。