🔍 镍靶材最高可做99.995%的纯度，为您的薄膜制备提供卓越性能。凭借其出色的电子和热导性，镍靶材是多种高端应用的首选。
🔬 制备技术：先进与精细
我们采用最新的磁控溅射技术来制备镍薄膜，确保薄膜具有均匀的厚度和优越的附着性。平均膜厚控制在2-5微米，满足各类精密应用的需求。
📈 性能亮点：
纯度: 99.995%（可做）
膜厚均匀度: ±0.1微米
导电性: 优越，适用于高性能电子器件
热稳定性: 强，耐高温应用